半導體行業廢氣治理方案方案概述

半導體行業廢氣處理（lǐ），按照其（qí）廢氣處理工（gōng）藝分為：酸性廢氣處理（SEX）、堿性廢氣處理(AEX)、有機廢氣處理(VEX)和一般排氣(GEX)等；其廢氣處理係統包括：酸性廢氣處理設備、堿性廢氣處理設備、有機廢氣處理設備等（děng）；酸、堿廢氣處理設備有：洗滌塔，又名噴淋塔、吸收塔；有機廢氣處理設備有（yǒu）：活性炭吸附裝置、直燃（rán）式（shì）熱氧化廢氣焚燒爐（TO）等。

方案（àn）特點

技術路線

1 活性炭 / 沸石+催化燃燒（shāo）

淨化原理: 有機（jī）廢（fèi）氣通過活性炭/沸石吸（xī）附飽（bǎo）和（hé）後，采用熱空氣進行脫附再（zài）生，脫（tuō）附後的高濃度廢氣經催化燃燒排空。催化燃燒（shāo）利用熱空氣（qì）或熱氮氣（qì）來脫附產生的高濃度廢氣，有（yǒu）機（jī）廢氣在貴金屬催化劑的（de）作（zuò）用下於250~400℃之（zhī）間催化氧化（huà）為（wéi）CO2和H2O，並釋放大量的熱量，通過熱交換器對熱（rè）量進行再（zài）利用。

2 沸石（shí）轉筒+三塔式RTO

本技術（shù）是沸石轉輪（lún）吸附同蓄熱式焚燒技術的組合工藝，淨化係統主要由三級幹式過濾裝置、沸（fèi）石轉輪濃縮吸附裝置、RT0、風機、換熱器、PLC自動化控製係統組成。該組合技術通過沸石轉輪的吸附（fù）濃縮使大（dà）風量（liàng）、低濃（nóng）度（dù）有（yǒu）機廢氣濃縮為（wéi）小風量、高濃度濃縮氣體，高濃度濃縮氣再經RTO高溫燃燒分解為(CO2和H2O等（děng）無機成分。